晶瑞电材子公司苏州瑞红 KrF 光刻机及配套设备于7月5日顺利搬入实验室。当天庆祝仪式上，晶瑞电材总裁兼瑞红董事长薛利新向集团董事会、兄弟公司以及社会各界对瑞红光刻胶事业的支持和帮助表示感谢，并表示未来的日子任重道远，公司应积极抓住发展机遇，充分展现瑞红人在电子材料界的雄心壮志，跑出“加速度”，使瑞红品牌在未来的日子里始终勇立潮头。

　　光刻胶又称光致抗蚀剂，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，是半导体制造的关键性材料。银河证券称，目前中国光刻胶市场在高速增长，但国内厂商主要还是以生产 PCB 光刻胶为主，对应全球光刻胶市场分类占比，国内光刻胶生产结构还存在较大的不匹配。半导体光刻胶市场增速高于整体，尤其高端半导体光刻胶需求旺盛，中国半导体光刻胶市场正在高速增长。

　　长江证券在半导体光刻胶深度研究报告中称，晶瑞电材是历史最为悠久的国产光刻胶企业，其子公司苏州瑞红的紫外负胶、宽谱正胶以及 g 线光刻胶已供应市场数十年，i 线光刻胶也已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货，是国内少数实现半导体光刻胶规模销售的厂商之一。

　　值得注意的是，苏州瑞红已完成技术难度更高的 KrF 光刻胶中试，产品分辨率达到了 0.25~0.13μm 的技术要求，争取于年内实现 KrF 光刻胶的批量供货。晶瑞电材购置的5台光刻机中包括 ASML 1900Gi ArF 侵入式光刻机，用于研发最高分辨率 28nm 的光刻胶，相关研发工作正在积极推进中。

　　近年来，晶瑞电材以实现“国际水准的电子材料企业联合体”的企业为愿景，围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，努力将公司打造成为集研发、生产、检测、销售、技术支持于一体的国际知名电子材料制造企业。除光刻胶业务处于国内领先地位以外，晶瑞电材在超净高纯化学品和锂电池材料方面也均有不错的成绩，其中晶瑞电材的超净高纯化学品主要产品均已达到国际最高纯度G5等级，成为全球范围内同时掌握半导体级高纯双氧水、高纯硫酸、高纯氨水三项技术的少数几家企业之一；锂电池材料方面，晶瑞电材研发的 CMCLi 粘结剂生产线也已顺利落成，打破国外垄断，实现了国产替代。

　　目前半导体光刻胶格局整体被日本企业主导，技术壁垒也非常高，但这也意味着我国企业有巨大的替代空间。如今半导体产业正在进行第三次转移，目的地是中国大陆，同时伴随着国产光刻机企业的崛起叠加供给端的事件驱动，国产光刻胶将迎来了一个黄金发展窗口，晶瑞电材也有望在光刻胶领域大放光彩。

　　未来，晶瑞电材也将持续发挥主营业务的优势，围绕泛半导体和新能源材料两大赛道，持续通过内生增长和外延并购，将公司打造成产品种类全、技术水平高，具有国际竞争力的电子材料生产企业。